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德国应用光谱Plasma Emission Messurement System白光干涉膜厚仪
等离子体发射测量在紫外线…近红外线范围可同时观察到等离子发射低压等离子沉积技术是一个客观的连续不断的过程,如PVD(物理气象沉积)是今天真正的问题之一。除了等离子体发射光的表观检查,有时也使用
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多功能薄膜制备系统-Nano PVD
团队的具体需求,经过不懈努力推出了台式高性能多功能PVD薄膜制备系列产品。该系列产品是为高水平学术研究研发的小型物理气相沉积设备。推出之后短短几年时间已经在欧洲销售了数十台,该系列产品包含了磁控溅射
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VSParticle 纳米粒子发生器
的检测中,标准基片表现出了优异的信号增强性能。气体传感器 金属氧化物 (MOX) 气体传感器通过半导体金属氧化物薄膜的电阻变化来检测气体,但氧化物涂层需要温和的沉积,故而常用的 PVD 与 CVD
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ETD-900M磁控溅射仪
离子溅射仪外观亮丽做工精致磁控溅射是物理气相沉积的一种。ETD-900M 型离子溅射仪外观亮丽做工精致磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备
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沉积物采样器
技术参数:适用水深:5米以内采样规格:所采集样品为河流、湖泊、浅海柱状沉积物(底泥),采样深度为1米(少许增加附件可以达到1.5米),样品直径57 mm。 采样管尺寸:Ø 63x57 mm
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沉积岩中非黏土矿物矿物物相定性、定量分析
,钙芒硝,浊沸石,方沸石等。 本项目是利用x射线衍射仪(XRD)对常见非黏土矿物进行物相定性定量分析。每一种矿物的晶体都具有特定的X射线衍射谱图,图谱中的特征峰强度与样品中该矿物的含量相关,通过实验
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溅射设备 MVS
,各种PECVD,HWCVD,和PVD腔室可以单个制造,也可配备到现有的团簇型(星型)或是直线型沉积系。我们公司的工程设计部门尽可能为用户着想,以使用户们获取他们最需要的且价格合适的设备。 MVS
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在线前处理气相色谱质谱联用仪 GPC-GCMS/MS
有效监测食物中残留的这些农药,日本卫生、劳动和福利部研制出一种快速分析食物中残留物的方法(多农药残留分析法),能同步分析多种目标农药(1997年宣布)。该方法使用GPC净化,使预处理程序实现部分自动化
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分层淤泥和沉积物采样套件
分层淤泥和沉积物采样套件分层采样器头,5.080×30.48厘米分层采样器主管,3个5.080×30.48厘米分层采样器附管,3个1.2米延长杆,塑料衬管,塑料盖,5.08厘米直径防漏器,通用滑动
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GSL-PECVD-300化学气相沉积
沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术,基本温度低,沉积速率快,在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂,适用于制备非晶硅和微晶硅
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